В работе рассматриваются технологические режимы, при которых подложка располагается над расплавом и процессу эпитаксиального роста предшествует процесс растворения подложки.
Библиографическое описание
Скопировать
Колмычков, В. В.. Анализ влияния естественной конвекции на процесс растворения эпитаксиальных слоев / В. В. Колмычков, О. С. Мажорова, Ю. П. Попов. — Москва : Ин-т прикладной математики РАН, 2004. — 35 с. : ил., табл. : 21 см — (Препринт / Ин-т прикладной математики им. М. В. Келдыша Рос. акад. наук).
LDR
01833cam a2200265 i 4500
008
050415s2004 ru 000 | rus
040
##
$a: RuMoRKP
$b: rus
$d: RuMoRGB
$e: rcr
084
##
$a: З843.329.08-1с116,0
100
1#
$a: Колмычков, В. В.
245
##
$a: Анализ влияния естественной конвекции на процесс растворения эпитаксиальных слоев
$c: В. В. Колмычков, О. С. Мажорова, Ю. П. Попов
260
##
$a: Москва
$b: Ин-т прикладной математики РАН
$c: 2004
300
##
$a: 35 с.
$b: ил., табл.
$c: 21 см
490
##
$a: Препринт / Ин-т прикладной математики им. М. В. Келдыша Рос. акад. наук
$v: № 81 за 2004 г.
504
##
$a: Библиогр.: с. 25-27
520
##
$a: В работе рассматриваются технологические режимы, при которых подложка располагается над расплавом и процессу эпитаксиального роста предшествует процесс растворения подложки.
650
#1
$a: Радиоэлектроника -- Радиотехника -- Радиотехнические материалы и изделия -- Полупроводниковые материалы и изделия -- Твердые растворы -- Получение -- Математическое моделирование
653
##
$a: жидкофазная эпитаксия
700
1#
$a: Мажорова, Ольга Семеновна
700
1#
$a: Попов, Юрий Петрович
852
##
$a: РГБ
$b: FB
$j: 3 05-7/1696
$x: 90
Национальная электронная библиотека (НЭБ) предлагает Вам ознакомиться с подробной информацией о документе: « Анализ влияния естественной конвекции на процесс растворения эпитаксиальных слоев » , автор — Колмычков В. В.. Документ был опубликован в 2004 году. Место издания — Москва. Издательство — Ин-т прикладной математики РАН. Информация о документе предоставлена в НЭБ библиотекой "Российская государственная библиотека". Фонд библиотеки расположен по адресу: 119019, Москва, ул. Воздвиженка, 3/5.