← Вернуться

Теоретические и технологические основы активации физическими полями материалов и процессов в точном литье. автореферат дис. ... доктора технических наук : 05.16.04

О произведении

Автор:
Ответственность:
Юж.-Ур. гос. ун-т
Место издания:
Челябинск
Год издания:
Количество страниц:
35 с.
Источник:
Российская государственная библиотека (РГБ)
Язык:
Русский