СПОСОБ ОЧИСТКИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ГАЗОВ ПРОЦЕССА ВОДОРОДНОГО ВОССТАНОВЛЕНИЯ ХЛОРСИЛАНОВ ОТ ХЛОРИДА ВОДОРОДА
Предложен способ селективной очистки технологических газов процесса водородного восстановления хлорсиланов, содержащих HCl и хлорсиланы, от хлорида водорода. Очистку газов от HCl осуществляют пропусканием через гранулированный адсорбент на основе синтетического цеолита типа морденит, адсорбцию ведут при (-10) oC (-20)°С и давлении 5 - 10 атм, а регенерацию насыщенного адсорбента осуществляют сбросом избыточного давления с последующей продувкой адсорбента чистым водородом при 90 - 110°С.
Приведен базовый вариант технологической схемы установки адсорбционного извлечения HCl из газов процесса водородного восстановления хлорсиланов. Конструкция установки позволяет полностью исключить выбросы в атмосферу и получить хлорид водорода высокой чистоты (до 99,99 %), а также обеспечить полное использование водорода и хлорсиланов при минимальных энергозатратах. Способ применяется для очистки технологических газов производства полупроводникового поликристаллического кремния, а также может быть использован в производстве редких и цветных металлов.
Описание документа
Портал НЭБ предлагает вам прочитать онлайн или скачать патент «СПОСОБ ОЧИСТКИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ГАЗОВ ПРОЦЕССА ВОДОРОДНОГО ВОССТАНОВЛЕНИЯ ХЛОРСИЛАНОВ ОТ ХЛОРИДА ВОДОРОДА», заявителя Аншиц А.Г., Верещагина Т.А., Левинский А.И., Муравицкий С.А., Алексеева Т.В., Лозовацкий В.М. Язык: «Русский».
Выражаем благодарность библиотеке «Федеральный институт промышленной собственности, отделение ВПТБ» за предоставленный материал.