Способ получения пленки диоксида кремния на подложке, включающий подготовку поверхности подложки путем обработки ее в газовых реагентах при воздействии УФ-излучения с длиной волны 185,254 нм и температуре 200-250oC и последующее осаждение в едином технологическом цикле диоксида кремния из газовых реагентов при воздействии УФ-излучения с длиной волны 185,254 нм и температуре 200-250oC, отличающийся тем, что перед подготовкой поверхности подложку обрабатывают в газовой смеси трифторида азота и водорода с парциальными давлениями 500-700 Па каждого при УФ-облучении с длиной волны не выше 170 нм при 100-120oC, при этом при подготовке поверхности в качестве газовых реагентов используют смесь трифторида азота, водорода и кислорода при парциальных давлениях 500-700 Па, 500-700 Па и 100-200 Па соответственно, а для осаждения пленки диоксида кремния в качестве газовых реагентов используют смесь тетраметоксисилана и кислорода при парциальных давлениях 50-100 Па и 500-1000 Па соответственно.
Портал НЭБ предлагает вам прочитать онлайн или скачать патент «СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКИ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ НА ПОДЛОЖКЕ», заявителя Алехин А.П., Мазуренко С.Н., Маркеев А.М., Науменко О.И. Язык: «Русский».
Выражаем благодарность библиотеке «Федеральный институт промышленной собственности, отделение ВПТБ» за предоставленный материал.