Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
Москва, 1990
Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
Москва, 1990
Библиографическое описание
Скопировать
Гусев, Александр Владимирович. Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем : автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01. — Москва, 1990. — 20 с. : ил.
Детальная информация
Код документа в НЭБ
000199_000009_000269295
Каталог
Автор(ы)
Заглавие
Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.01
Место издания
Москва
Год издания
1990
Объем
20 с.
Язык
Русский
Еще
Библиотека
LDR
01157nam a2200241 i 4500
001
000269295
003
RuMoRGB
005
20081111120000.0
008
081111s1990 ru a||| a |00 u rus d
035
##
$a: (RuMoEDL)-1k012322
$a: (RuMoEDL)-1k012322
040
##
$a: RuMoRGB
$b: rus
$c: RuMoRGB
$a: RuMoRGB
$b: rus
$c: RuMoRGB
041
##
$a: rus
$a: rus
072
#1
$a: 05.27.01
$2: nsnr
$a: 05.27.01
$2: nsnr
100
1#
$a: Гусев, Александр Владимирович
$a: Гусев, Александр Владимирович
245
##
$a: Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем :
$b: автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
$a: Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем :
$b: автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
260
##
$a: Москва
$c: 1990
$a: Москва
$c: 1990
300
##
$a: 20 с.
$b: ил
$a: 20 с.
$b: ил
650
#1
$a: Твердотельная электроника и микроэлектроника
$2: nsnr
$a: Твердотельная электроника и микроэлектроника
$2: nsnr
787
11
$w: 008055169
$i: Диссертация
$w: 008055169
$i: Диссертация
856
11
$q: application/pdf
$u: http://dlib.rsl.ru/rsl01000000000/rsl01000269000/rsl01000269295/rsl01000269295.pdf
$y: Читать
$q: application/pdf
$u: http://dlib.rsl.ru/rsl01000000000/rsl01000269000/rsl01000269295/rsl01000269295.pdf
$y: Читать
Национальная электронная библиотека (НЭБ) предлагает Вам ознакомиться с подробной информацией о документе: « Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.01 » , автор — Гусев А.В.. Документ был опубликован в 1990 году. Место издания — Москва. Электронный ресурс – электронная копия документа предоставлена в НЭБ библиотекой "Российская государственная библиотека". Фонд библиотеки расположен по адресу: 119019, Москва, ул. Воздвиженка, 3/5. На сайте rusneb.ru Вы можете читать онлайн оцифрованную версию документа « Реактивное ионно-плазменное травление пленок алюминия для производства микросхем : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.01 » в удобной системе просмотра документов. Документ также доступен для скачивания в форматах: pdf.