LDR
01769nam a2200301 i 4500
008
100111s2009 ru |||| a |00 u rus d
017
##
$a: 10-7591А
$b: RuMoRKP
040
##
$a: RuMoRGB
$b: rus
$c: RuMoRGB
072
#1
$a: 05.11.14
$2: nsnr
084
##
$a: З844.1-060.5-5-05,0
$2: rubbk
100
1#
$a: Аношкин, Юрий Владимирович
245
##
$a: Технология получения резистивных структур на низкоразмерном уровне :
$b: автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.11.14
$c: Аношкин Юрий Владимирович; [Место защиты: Пенз. гос. ун-т]
650
#1
$a: Технология приборостроения
$2: nsnr
650
#1
$a: Радиоэлектроника -- Радиотехника -- Радиоэлектронная аппаратура -- Микроэлектроника -- Технология производства -- Технология печатных схем микроэлектроники -- Автоматизация
$2: rubbk
653
##
$a: резистивные структуры
720
1#
$a: Пензенский государственный университет
787
11
$w: 004627105
$i: Диссертация
852
##
$a: РГБ
$b: FB
$c: D13N
$j: 9 10-2/3337
$x: 90
856
11
$q: application/pdf
$u: http://dlib.rsl.ru/rsl01003000000/rsl01003484000/rsl01003484366/rsl01003484366.pdf
$y: Читать
Национальная электронная библиотека (НЭБ) предлагает Вам ознакомиться с подробной информацией о документе: « Технология получения резистивных структур на низкоразмерном уровне : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.11.14 » , автор — Аношкин Ю.В.. Документ был опубликован в 2009 году. Место издания — Пенза. Электронный ресурс – электронная копия документа предоставлена в НЭБ библиотекой "Российская государственная библиотека". Фонд библиотеки расположен по адресу: 119019, Москва, ул. Воздвиженка, 3/5. На сайте rusneb.ru Вы можете читать онлайн оцифрованную версию документа « Технология получения резистивных структур на низкоразмерном уровне : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.11.14 » в удобной системе просмотра документов. Документ также доступен для скачивания в форматах: pdf.