Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
Москва, 2019
Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
Москва, 2019
Библиографическое описание
Скопировать
Лапин, Дмитрий Геннадьевич. Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+ : автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01 / Лапин Дмитрий Геннадьевич; [Место защиты: Рос. технолог. ун-т]. — Москва, 2019. — 22 с..
Детальная информация
Код документа в НЭБ
000199_000009_010044966
Каталог
Автор(ы)
Заглавие
Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+ : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.01
Место издания
Москва
Год издания
2019
Объем
22 с.
Ответственность
Лапин Дмитрий Геннадьевич; [Место защиты: Рос. технолог. ун-т]
ББК
З844.1-060.14,0
Язык
Русский
Еще
Библиотека
LDR
01982nam a2200301 i 4500
001
010044966
003
RuMoRGB
005
20200817111605.0
008
190729s2019 ru |||| a |00 u rus d
017
##
$a: АР-П-19-004540
$b: RuMoRKP
$a: АР-П-19-004540
$b: RuMoRKP
040
##
$a: RuMoRGB
$b: rus
$c: RuMoRGB
$a: RuMoRGB
$b: rus
$c: RuMoRGB
041
##
$a: rus
$a: rus
072
#1
$a: 05.27.01
$2: nsnr
$a: 05.27.01
$2: nsnr
084
##
$a: З844.1-060.14,0
$2: rubbk
$a: З844.1-060.14,0
$2: rubbk
100
1#
$a: Лапин, Дмитрий Геннадьевич
$a: Лапин, Дмитрий Геннадьевич
245
##
$a: Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+ :
$b: автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
$c: Лапин Дмитрий Геннадьевич; [Место защиты: Рос. технолог. ун-т]
$a: Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+ :
$b: автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.01
$c: Лапин Дмитрий Геннадьевич; [Место защиты: Рос. технолог. ун-т]
260
##
$a: Москва
$c: 2019
$a: Москва
$c: 2019
300
##
$a: 22 с.
$a: 22 с.
541
1#
$c: RBT
$d: 20190517
$e: 2019.06.26.89
$c: RBT
$d: 20190517
$e: 2019.06.26.89
650
#1
$a: Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро - и нано -электроника , приборы на квантовых эффектах
$2: nsnr
$a: Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро - и нано -электроника , приборы на квантовых эффектах
$2: nsnr
650
#1
$a: Радиоэлектроника -- Радиотехника -- Радиоэлектронная аппаратура -- Микроэлектроника -- Технология изготовления -- Наноразмерная ионно-лучевая обработка
$2: rubbk
$a: Радиоэлектроника -- Радиотехника -- Радиоэлектронная аппаратура -- Микроэлектроника -- Технология изготовления -- Наноразмерная ионно-лучевая обработка
$2: rubbk
720
1#
$a: Российский технологический университет
$a: Российский технологический университет
787
11
$w: 010026701
$i: Диссертация
$w: 010026701
$i: Диссертация
852
1#
$a: РГБ
$b: OD
$c: HL04
$j: 9 19-5/905
$x: 39
$a: РГБ
$b: OD
$c: HL04
$j: 9 19-5/905
$x: 39
856
11
$q: application/pdf
$u: http://dlib.rsl.ru/rsl01010000000/rsl01010044000/rsl01010044966/rsl01010044966.pdf
$y: Читать
$q: application/pdf
$u: http://dlib.rsl.ru/rsl01010000000/rsl01010044000/rsl01010044966/rsl01010044966.pdf
$y: Читать
Национальная электронная библиотека (НЭБ) предлагает Вам ознакомиться с подробной информацией о документе: « Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+ : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.01 » , автор — Лапин Д.Г.. Документ был опубликован в 2019 году. Место издания — Москва. Электронный ресурс – электронная копия документа предоставлена в НЭБ библиотекой "Российская государственная библиотека". Фонд библиотеки расположен по адресу: 119019, Москва, ул. Воздвиженка, 3/5. На сайте rusneb.ru Вы можете читать онлайн оцифрованную версию документа « Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+ : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.01 » в удобной системе просмотра документов. Документ также доступен для скачивания в форматах: pdf.