Технические требования и методы испытания полиграфических материалов материалы для фотопроцессов и процессов изготовления офсетных форм
Москва : ВНИТО полиграфии и издательств, 1949
Технические требования и методы испытания полиграфических материалов материалы для фотопроцессов и процессов изготовления офсетных форм
Москва : ВНИТО полиграфии и издательств, 1949
Детальная информация
Код документа в НЭБ
000219_000011_RU_ГПНТБ_России_IBIS_0000683080
Заглавие
Технические требования и методы испытания полиграфических материалов материалы для фотопроцессов и процессов изготовления офсетных форм
Место издания
Москва
Издательство
Год издания
1949
Объем
207, 1
Ответственность
Всесоюзное научное инженерно-техническое общество полиграфии и издательств, Научно-исследовательский институт полиграфической и издательской техники ОГИЗ'а при Совете Министров СССР
УДК
681.651(03)
Портал НЭБ предлагает вам читать онлайн в Электронном Читальном Зале (ЭЧЗ) книгу «Технические требования и методы испытания полиграфических материалов материалы для фотопроцессов и процессов изготовления офсетных форм», автора Никанчикова Е.А. Огиевич О.В. Фомин Н.Д. Книга была издана в 1949 году. Содержит 207, 1
Выражаем благодарность библиотеке «Государственная публичная научно-техническая библиотека России (ГПНТБ России)» за предоставленный материал.