Версия для слепых
Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.06
Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.06
Москва, 2009

Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве
автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.06

Москва, 2009

Библиографическое описание

Скопировать
Овчинников, Вячеслав Алексеевич. Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве : автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / Овчинников Вячеслав Алексеевич; [Место защиты: Моск. гос. ин-т электронной техники]. — Москва, 2009. — 30 с..

Детальная информация

Код документа в НЭБ
000199_000009_003483892
Заглавие
Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.06
Место издания
Москва
Год издания
2009
Объем
30 с.
Ответственность
Овчинников Вячеслав Алексеевич; [Место защиты: Моск. гос. ин-т электронной техники]
ББК
З844.15-060.6-5,0
Язык
Русский
Ключевые слова
фотошаблоны - дефекты производства

Другие книги автора

Овчинников В.А.
Москва, 2011
Российская государственная библиотека (РГБ)
Доступ: свободный

Другие документы из источника "Российская государственная библиотека (РГБ)" — Авторефераты диссертаций

Гришина А.В.
Москва, 2026
Российская государственная библиотека (РГБ)
Доступ: свободный
Басков И.С.
Москва, 2026
Российская государственная библиотека (РГБ)
Доступ: свободный
Посмотреть все документы источника "Российская государственная библиотека (РГБ)"

MARC-запись (MARC21)

LDR
02390nam a2200313 i 4500
001
003483892
003
RuMoRGB
005
20100423135533.0
008
091222s2009 ru |||| a |00 u rus d
017
##
$a: 10-1250А
$b: RuMoRKP
040
##
$a: RuMoRGB
$b: rus
$c: RuMoRGB
041
##
$a: rus
072
#1
$a: 05.27.06
$2: nsnr
084
##
$a: З844.15-060.6-5,0
$2: rubbk
100
1#
$a: Овчинников, Вячеслав Алексеевич
245
##
$a: Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве :
$b: автореферат дис. ... кандидата технических наук : 05.27.06
$c: Овчинников Вячеслав Алексеевич; [Место защиты: Моск. гос. ин-т электронной техники]
260
##
$a: Москва
$c: 2009
300
##
$a: 30 с.
650
#1
$a: Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники
$2: nsnr
650
#1
$a: Радиоэлектроника -- Радиотехника -- Радиоэлектронная аппаратура -- Микрорадиоэлектронная аппаратура -- Интегральные схемы -- Технология производства -- Технология печатных схем -- Оборудование
$2: rubbk
653
##
$a: фотошаблоны - дефекты производства
720
1#
$a: Московский государственный институт электронной техники
787
11
$w: 004562928
$i: Диссертация
852
##
$a: РГБ
$b: FB
$c: D13N
$j: 9 10-1/1236
$x: 90
856
11
$q: application/pdf
$u: http://dlib.rsl.ru/rsl01003000000/rsl01003483000/rsl01003483892/rsl01003483892.pdf
$y: Читать
Национальная электронная библиотека (НЭБ) предлагает Вам ознакомиться с подробной информацией о документе: « Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.06 » , автор — Овчинников В.А.. Документ был опубликован в 2009 году. Место издания — Москва. Электронный ресурс – электронная копия документа предоставлена в НЭБ библиотекой "Российская государственная библиотека". Фонд библиотеки расположен по адресу: 119019, Москва, ул. Воздвиженка, 3/5. На сайте rusneb.ru Вы можете читать онлайн оцифрованную версию документа « Разработка и исследование технологического процесса, режимов оборудования и методик устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при изготовлении фотошаблонов в полупроводниковом производстве : автореферат дис. кандидата технических наук : 05.27.06 » в удобной системе просмотра документов. Документ также доступен для скачивания в форматах: pdf.
Вы находитесь на новой версии портала Национальной Электронной Библиотеки. Если вы хотите воспользоваться старой версией, перейдите по ссылке .