Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ti автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук специальность 05.27.01 <Твердотел. электроника, радиоэлектрон. компоненты, микро- и наноэлектроника на квантовых эффектах>

##
$a: RU
$b: 08-13741
$9: Летопись авторефератов диссертаций

##
$a: RU
$b: 2008-9017а
$9: 361а

##
$a: 20080912d2008 u u0rusy0150 ca

##
$a: rus

##
$a: RU

##
$a: a dm |||||

1#
$a: Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ti
$e: автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук
$e: специальность 05.27.01 <Твердотел. электроника, радиоэлектрон. компоненты, микро- и наноэлектроника на квантовых эффектах>
$f: Смирнов Владимир Александрович
$g: [Технол. ин-т Юж. федер. ун-та]

##
$a: Таганрог
$d: 2008

##
$a: 23 с.
$c: ил.
$d: 21

##
$a: Библиогр.: с. 22-23 (16 назв.)

##
$a: 621.38
$v: 3
$z: rus

##
$a: 47
$2: rugasnti

##
$a: 32.85
$2: rubbk

##
$a: 05.27.01
$2: oksvnk

#1
$a: Смирнов
$b: В. А.
$g: Владимир Александрович
$4: 070

##
$a: RU
$b: RKP
$c: 20080912
$g: PSBO

#1
$a: RU
$b: RKP
$c: 20080912

#1
$a: RU
$b: NLR
$c: 20090115
$g: rcr

##
$u: https://vivaldi.nlr.ru/bd000211290/view

#1
$u: https://vivaldi.nlr.ru/bd000211290/cover

#1
$u: https://vivaldi.nlr.ru/bd000211290/text

1#
$a: Авторефераты
$b: 05.00.00 Технические науки
$b: 05.27.00 Электроника
$b: 05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и наноэлектроника на квантовых эффектах

##
$a: bd000211290
$b: Текст. Автореферат диcсертации
$e: Авторефераты
$d: 20100430143100
$x: ARD11

##
$a: К.О.